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Reinigungslösung für Halbleiter

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China Reinigungslösung für Halbleiter Lieferanten

Die Reinigung erfolgt während der gesamten Halbleiterfertigung. Die Reinigung von Halbleitern durchläuft den gesamten Halbleiterprozess. Bei der Herstellung von Siliziumwafern ist es erforderlich, den polierten Siliziumwafer zu reinigen, um Oberflächenverunreinigungen zu entfernen, Fotolack, Nassätzen, CVD usw. bei der Chipherstellung zu entfernen und dann zur endgültigen Materialqualitätsprüfung. Jeder Schritt muss gereinigt werden, um sicherzustellen, dass der nächste Schritt frei von Verunreinigungen ist und die Produktausbeute erhalten bleibt. Während der Chipprozess weiter schrumpft, steigt gleichzeitig die Anzahl der erforderlichen Reinigungen. Laut Statistik macht die Anzahl der Reinigungsprozesse ein Drittel des gesamten Chipherstellungsprozesses aus und ist ein wichtiger Teil der Chipherstellung. Sehr niedrige Oberflächenspannung und Viskosität, es lässt sich gut dispergieren und in verschiedene Spalten verteilen, mit einem guten reinigenden und benetzenden Reinigungseffekt.

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